檢索結果：共26筆資料 檢索策略： "氧化鋅".ckeyword (精準) and cadvisor.raw="趙良君"
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本實驗為利用離子束能量8、12以及16 keV 沉積不同表面粗糙度的鋅薄膜，再以330、380、400以及420 ℃熱氧化成長氧化鋅奈米線。實驗結果發現只有在離子束能量為12 keV 所沉積的鋅薄膜…
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本研究探討以離子束濺鍍法，沉積摻鉺氧化鋅薄膜(Erbium-doped ZnO, EZO)之特性。我們以層狀方式沉積EZO薄膜，藉退火使鉺與氧化鋅混合。實驗中，成功的以325 nm之He-Cd雷射，…
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本研究以管狀高溫爐利用化學氣相沉積法以氬氣和氧氣當载氣來沉積氧化鋅(ZnO)薄膜於矽基板上。和熱處理實驗的結果來做探討。剛沉積氧化鋅薄膜則用場發射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM)、X光繞射譜線(XR…
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鉺摻雜氧化鋅已經由氣相轉換的過程製備。氧化鋅粉末、石墨粉末和氧化鉺的粉末混合置於高溫爐管中，然後加熱至1000°C並持溫1小時。摻鉺的氧化鋅沉積於接近混合粉末的矽基板上。摻鉺的氧化鋅樣品則用場發射掃…
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本研究是探討以溶膠凝膠法製備稀土元素釹摻雜氧化鋅。將Nd：ZnO試片先經熱退火處理，並由場發射掃描式電子顯微(FE-SEM)、X光繞射譜線(XRD)、拉曼散射光譜(Raman)和光激發螢光光譜(PL…
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本文藉由改變離子束轟擊角度，使Si (100) 基板表面產生不同波長之波紋形貌；使用反應式離子束濺鍍法成長氧化鋅奈米粒子，經由改變成長時間、基板溫度，討論最佳奈米粒子成長參數；最後將奈米粒子分別沉積…
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本研究以反應式離子束濺鍍沉積摻氮氧化鋅薄膜，以鋅為靶材，同時通入氬氣、氧氣及氮氣，固定氬氣流量，探討氧氣和氮氣流量對摻氮氧化鋅薄膜的特性研究。實驗結果顯示當氧氣流量介於0.5 ~ 2.0 sccm，…
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此實驗使用反應式離子束濺鍍法沉積摻氮氧化鋅薄膜，採用陽極層離子源，以鋅為靶材，同時通入氬氣、氧氣及氮氣，探討氧/氮流量對摻氮氧氧化鋅薄膜的特性影響。實驗結果顯示在氧流量0.5 ~ 4.0 sccm，…
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本文是以反應性離子束濺鍍法成長氧化鋅薄膜，嘗試在兩種不同反應濺鍍環境:一是“氧氣直接通入腔體”；另一是“氧及氬氣同時通入離子槍”作反應性濺鍍，並探討通入氧流量的多寡對薄膜性質、光學、結構的影響。在未…
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使用反應式離子束濺鍍法成長氧化鋅鎂薄膜已成功的被製作。本論文將使用反應氣體氧氣參與離子束濺鍍Mg0.1Zn0.9金屬靶材，以（111）矽基板溫度360、400及500℃成長氧化鋅鎂薄膜MgxZn1-…